隨著半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝的不斷發(fā)展, 更精密、集成度更高是行業(yè)發(fā)展的趨勢(shì)。目前,制造工藝已經(jīng)進(jìn)入亞納米時(shí)代,對(duì)生產(chǎn)設(shè)備的精度要求越來越嚴(yán)格,因此,除了設(shè)備本身的工藝水平需要達(dá)到生產(chǎn)要求以外,其所處的生產(chǎn)環(huán)境——潔凈室的各項(xiàng)指標(biāo)也必須被嚴(yán)格地控制,包括:潔凈度、溫濕度、照度、氣流方向、振動(dòng)靜電、磁場(chǎng)以及有害氣體等。其中的溫濕度控制是重點(diǎn),其控制的效果直接影響著生產(chǎn)的優(yōu)良率。